本發明提供一種化學機械拋光墊,包括:具有拋光表面的拋光層;和光穩性聚合物終點檢測窗,該檢測窗包括含有氨基部分的芳香聚胺與異氰酸酯封端、含有未反應-NCO部分的預聚多元醇進行聚氨酯反應的產物,以及包括至少一種UV吸收劑和受阻胺光穩定劑的光穩定劑成分;其中以<95%的氨基部分與未反應-NCO部分的化學計量比來提供芳香聚胺和異氰酸酯封端的預聚多元醇;其中光穩性聚合物終點檢測窗在持續等軸拉伸載荷為1kPa、60?!婧銣?00分鐘時測定具有≤0.02%的依時應變并且在380納米的波長下對于1.3mm的窗厚度具有≥15%的雙光通量;并且,其中拋光表面適用于拋光選自磁性基材、光學基材和半導體基材的基板。此外,本發明還提供了使用本發明的化學機械拋光墊拋光基材(優選半導體晶片)的方法。
聲明:
“具有光穩性聚合物終點檢測窗的化學機械拋光墊及相應的拋光方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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