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            等離子輔助化學氣相沉積設備

            1021   編輯:管理員   來源:中冶有色網  
            2023-03-19 03:45:25
            本實用新型公開了一種等離子輔助化學氣相沉積設備,其包括有化學氣相沉積真空室,該化學氣相沉積真空室通過法蘭連接有真空系統,所述化學氣相沉積真空室的兩側室壁各設有相對的能產生等離子體、且能通過調控磁鐵分布調控磁場以改變等離子體強度與分布的可調式磁控等離子源平板電極,該等離子源平板電極連接有中頻電源,所述化學氣相沉積真空室頂部設有二維工件轉臺。使用本實用新型等離子輔助化學氣相沉積設備進行的表面改性工藝不涉及任何廢水的產生及排放,符合環保的生產原則。表面改性工藝可賦予樣品表面附加功能,如防指紋、防霧、防靜電等,提高產品的附加價值。
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            “等離子輔助化學氣相沉積設備” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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