本實用新型公開了一種晶圓清洗拋光裝置,包括:清洗拋光機構,所述清洗拋光機構外壁上設置有與其外徑相匹配的擋水圈,且清洗拋光機構頂端固定連接有同軸線的隔圈件,并且隔圈件的內壁上水平固定連接有濾網,所述隔圈件的外壁上固定連接有同軸線的承載盤,所述擋水圈外壁的一側連通有出氣管,且出氣管的出氣端連通有風機。該晶圓清洗拋光裝置通過風機可通過出氣管將隔圈件內的水分進行抽取,然后水分在重力的作用下可進入到清洗拋光機構下端的收集器內進行收集,這樣撐架就可快速風干,接著通過水泵可將廢水集中輸送到承載盤內,然后可通過廢水初步對承載盤進行清理,這樣可使廢水得到再次利用。
聲明:
“晶圓清洗拋光裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)