本申請屬于半導體材料領域,具體提供一種近化學計量比復合薄膜及其制備方法,所述制備方法在進行離子注入分離后,采用兩步退火法對剝離所得單晶復合薄膜進行退火處理,并且,在退火前在壓電薄膜的表面設置隔離層,從而一方面降低單晶壓電薄膜的鋰損失,另一方面抑制在退火過程中,由單晶壓電薄膜分解所得氧化鋰的外逸,進而使制得的單晶壓電薄膜中的壓電材料保持近化學計量比。
聲明:
“近化學計量比復合薄膜及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)