本發明提供一種具有微觀裂紋結構的氫氧化鈷、其制備方法及應用,涉及鋰電池技術領域。通過絡合控制結晶法獲得氫氧化鈷漿液,然后通過電化學腐蝕原理制得氫氧化鈷。該氫氧化鈷的粒徑為6~20μm,具有微觀裂紋結構。微觀裂紋結構有利于沉淀過程包夾其中的陰離子雜質的釋放,使得陰離子雜質含量達到100ppm以下。以該氫氧化鈷為原料獲得的鈷酸鋰正極材料,阻抗性能和倍率性能均得到有效改善。
聲明:
“具有微觀裂紋結構的氫氧化鈷、其制備方法和應用” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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