本發明公開了一種低膨脹芝麻點釉,包括基料和添加劑,所述基料的原料組成為:鋰輝石35~45wt%、透鋰長石5~15wt%、蘇州土5~8wt%、煅燒滑石10~15wt%、碳酸鋇7~10wt%、碳酸鍶3~6wt%、石英15~25wt%、方解石3~6wt%、骨灰1~5wt%;所述添加劑為芝麻點,其用量為基料的0.1~0.2wt%。本發明通過鋰輝石和透鋰長石的復合使用,解決了熔融溫度范圍窄的問題。本發明低膨脹芝麻點釉,坯釉結合性好、熔融范圍寬、膨脹系數可控可調,能夠很好地適應各種低膨脹陶瓷坯體的使用要求,有效提高了生產合格率。
聲明:
“低膨脹芝麻點釉及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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