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            > 基于離層分布規律的地表沉陷控制注漿填充系統

            基于離層分布規律的地表沉陷控制注漿填充系統

            753   編輯:管理員   來源:中冶有色網  
            2023-03-09 00:50:03
            本發明涉及煤礦開采技術領域,具體涉及一種基于離層分布規律的地表沉陷控制注漿填充系統,可實現:在采礦工作過程中,獲取礦井當前及其之前各工作區縱向深度下對應的各橫向工作區寬度、各離層帶分布深度、離層帶各覆巖層的巖石膨脹率和含水率、當前工作區縱向深度下對應的注漿填充總量;根據各橫向工作區寬度和各離層帶分布深度,獲取各高斯混合模型,并根據各離層帶分布深度,確定各高斯混合模型參數;將各高斯混合模型參數、離層帶的各覆巖層的巖石膨脹率和含水率,輸入到注漿填充量預測網絡中,得到下一工作區縱向深度下對應的注漿填充總量預測值,進而確定注漿速率。本發明可以實現注漿填充總量的準確預測,提高了離層注漿填充效果。
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