一種鈮酸鋰晶體高效超光滑化學機械拋光方法,屬于非線性光學晶體超精密加工技術領域。其特征是樣品為鈮酸鋰晶片,采用固結磨料研磨、保持環硬拋光墊拋光、保持環軟拋光墊化學機械拋光相結合的加工方法,硬拋光墊為合成革或聚氨酯拋光墊,軟拋光墊為無紡布或絨毛拋光墊?;瘜W機械拋光液的pH值為10.2-10.6,含有氧化鈰、氧化硅、氫氧化鉀、氫氧化鈉、氫氧化鋇、高錳酸鉀、雙氧水、檸檬酸、醋酸、草酸中的四種。固結磨料研磨時間為15-25min,硬拋光墊拋光時間為50-70min,化學機械拋光時間為3-6min?;瘜W機械拋光的材料去除率為420-460nm/min,拋光后鈮酸鋰的平面度為3.8-5.5μm,表面粗糙度Ra為0.35-0.5nm,PV值為3.8-6nm。本發明的效果和益處是實現了非線性光學晶體高效超光滑拋光方法。
聲明:
“鈮酸鋰晶體高效超光滑化學機械拋光方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)