本發明屬于存儲材料制備技術領域,具體為一種鈮酸鋰材料刻蝕及提高側壁角度的優化方法。本發明方法包括:硬掩膜制作、傾斜刻蝕、金屬黑化修正側壁以及濕法腐蝕清洗。與傳統的直接利用干法刻蝕鈮酸鋰圖形不同,本方法將干法刻蝕與濕法刻蝕相結合,不僅能夠獲得刻蝕角度陡直、側壁光滑的鈮酸鋰圖形,而且刻蝕效率也極高,同時可對鈮酸鋰圖形進行后期修正。本發明方法對基于鈮酸鋰材料的納米加工具有極大意義,并且不會破壞材料的鐵電特性。
聲明:
“鈮酸鋰材料刻蝕及提高側壁角度的優化方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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