本發明涉及一種遮蔽裝置及補鋰設備,遮蔽裝置包括驅動組件和環形遮蔽片,環形遮蔽片包括遮蔽片主體和遮蔽部,遮蔽片主體設有補鋰開口,遮蔽部位于補鋰開口內;環形遮蔽片與驅動組件連接,驅動組件用于驅動環形遮蔽片運動,以使遮蔽部在靶材安裝機構與基片之間的區域與基片同步運動,且遮蔽部的正投影至少部分位于基片上,以用于在補鋰時使基片上形成電極區和留白區。該遮蔽裝置在使用時,環形遮蔽片可與基片的收放卷裝置同步運轉,使遮蔽部在靶材安裝機構與基片之間的區域與基片同步運動,遮蔽部與基片相對靜止,從而在補鋰區間內持續對基片上的特定區域進行遮蔽,確?;碾姌O區可以有效進行濺射,而防止被遮蔽的區域鍍膜,從而形成留白區。
聲明:
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