本發明公開了一種鈮酸鋰自支撐薄膜的制備方法,包括:獲取具有拋光面的鈮酸鋰單晶晶片;獲取高阻襯底,并在所述高阻襯底上沉積一層介電層;在所述介電層的表面刻蝕溝槽;將所述鈮酸鋰單晶晶片的所述拋光面與所述介電層具有所述溝槽的表面鍵合形成第一復合結構;對所述第一復合結構進行減薄處理后得到第二復合結構;對所述第二復合結構進行表面處理后得到第三復合結構;將所述第三復合結構放入處理液中進行腐蝕,得到所述鈮酸鋰自支撐薄膜。通過上述方法得到的鈮酸鋰自支撐薄膜與鈮酸鋰單晶晶片的質量一樣,從而解決了現有技術中制備鈮酸鋰薄膜時由于離子束作用而造成的薄膜缺陷問題。
聲明:
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