本發明涉及一種X熒光光譜鍍層分析儀裝置,包括光管、準直器、攝像頭、激光調節裝置、探測器以及樣品測試平臺,準直器固定在光管的法蘭上,激光調節裝置固定于光管的前端支腳上,攝像頭設置于光管的一側,探測器位于光管的另一側,樣品測試平臺位于光管的光路上,準直器的底座上設有一第一鏡片,第一鏡片位于光管的光路上,攝像頭底部的光路上設有一第二鏡片??删_定位樣品在樣品測試平臺上的測試位置;整個裝置結構緊湊;可實時觀測樣品的測試過程;樣品和測試組件的相對高度位置可調節,避免了不必要的碰撞而造成的損失。其適用于環境保護、臨床醫學、農業、地質冶金、制藥行業、石化等行業的X熒光光譜鍍層分析之用。
聲明:
“X熒光光譜鍍層分析儀裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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