本發明公開一種SnO2/Ag2(1?x)NixFe2O4復合薄膜材料的制備方法,所述Ag2(1?x)NixFe2O4中的x=0.05~0.5,包括以下步驟:S1:玻璃基片的預處理;S2:制備改性SnO2溶膠:S201:制備SnO2溶膠;S202:制備納米TiO2改性SnO2溶膠;S3:制備Ag2?xNixFe2O4前驅體溶液;S4:制備SnO2/Ag2(1?x)NixFe2O4復合膜:S401:將S1預處理后玻璃基片浸于改性SnO2溶膠中處理10min,再以1mm/s的提拉速度緩慢將其取出液面,80℃干燥10min,記為鍍改性SnO2膜1層;S402:重復S401操作0~4次;S403:煅燒;S404:鍍Ag2(1?x)NixFe2O4膜1層;S405:重復S404操作0~4次;S406:450~600℃煅燒2h。本發明通過構建異質結結構,改變電子的傳遞路徑,減少光生電子?空穴對的數量,進而提高復合材料的光催化活性和穩定性;同時,對可見光的光譜響應范圍廣。
聲明:
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