一種保護層,其由氧化鎂形成并且包含至少一種附加組分,所述附加組分選自:選自銅和氧化銅的銅組分、選自鎳和氧化鎳的鎳組分、選自鈷和氧化鈷的鈷組分以及選自鐵和氧化鐵的鐵組分;一種用于形成該保護層的復合材料;一種形成該保護層的方法;以及一種包含該保護層的等離子顯示板。所述保護層,應用在PDP中,保護電極和介電層不受Ne和Xe,或者He、Ne和Xe構成的混合氣體產生的等離子體離子,并且放電延遲時間和放電延遲時間對于溫度的依賴性均可降低以及抗濺射性增強。
聲明:
“保護層、其形成材料和方法以及含該保護層的PDP” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)