本發明涉及一種高硅取向低碳高硅硅鋼薄板的制備方法。其技術方案是將基材為硅含量低于3.0wt%的低碳鋼或低硅硅鋼置于濺射室,在真空或保護性氣氛下,采用濺射沉積法將不同靶材在基材兩面交替或同時沉積,預制成硅鐵合金膜或Fe/Si多層膜或Fe/Si超晶格多層膜的沉積層;再向濺射室通入N2和/或O2,采用濺射沉積法將Ti、Cr、Al或MgO靶材沉積在沉積層外表面,形成AlN、TiN、MgO或一層含Cr尖晶石型氧化物覆層;然后采用高能粒子注入法進行表面處理或擴散退火處理并進行軋制,最后將軋制的復合材料進行再結晶退火處理。本發明制備周期短、擴散退火處理時間短,能形成表面碳、磷及氧含量極低的高硅取向硅鋼薄板,沉積層的晶粒大小規則,具有取向。
聲明:
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