本發明公開的鐵電/鐵磁兩相復合薄膜是在Si基 板上原位生成的鐵電相和鐵磁相兩相復合薄膜,其中鐵電相為 PbTiO3相,鐵磁相為 NiFe2O4相。其制備方法:以醋酸鉛,鈦酸丁酯,醋酸鎳和硝酸 鐵為溶質,乙酸和乙二醇甲醚為溶劑配制溶膠先驅體。然后用 浸漬提拉法在Si基板上鍍膜,在不同溫度下熱處理。本發明工 藝簡單,成本低廉;用sol-gel法原位形成鐵電/鐵磁相復合材 料可以使兩相在分子尺度上均勻復合,大大增加接觸面積,使 磁電系數更高;sol-gel法原位鐵電鐵磁薄膜的制備技術可與 半導體集成電路技術相兼容,使得開發集半導體大規模集成電 路與鐵電鐵磁復合薄膜諸功能于一體的多功能電路、器件和系 統具有更好的應用前景。
聲明:
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