本發明公開了一種光敏復合薄膜材料及其制備方法和應用,多金屬氧化物和有機物;所述有機物高分子溶液濃度為10?3?10?2M;多金屬氧化物溶液的濃度為10?3?10?2M;所述制備方法包括:利用水熱法合成多金屬氧化物納米結構;將清洗的基片浸泡在高分子溶液中,使基片表面吸附一層高分子薄膜;將吸附有高分子薄膜的基片浸入含有多金屬氧化物納米結構的溶液中浸泡,使其吸附一層多金屬氧化物薄膜;重復多次制備所需薄膜復合材料。本發明電子傳導速率大大提升,提高了材料的光響應速度,且光敏效果可以通過改變Mo的摻雜量來進行調節。本發明操作簡單快捷,而且得到的復合薄膜具有快速光響應和高對比度的特點,在快速精確地信息存儲中有極大地應用前景。
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