本發明公開了一種氧化鋅/氧化石墨烯復合光開關材料及其電化學制備方法。該復合材料是在導電玻璃為基底由一層電化學沉積的厚度8-30nm氧化石墨烯上通過電化學沉積法沉積一層厚度300-800nm柱狀氧化鋅而成。其制備過程包括:將ITO作為工作電極采用三電極體系沉積一層厚度達8-30nm的氧化石墨烯。然后以沉積均勻氧化石墨烯薄膜的電極作為工作電極,采用三電極體系在硝酸鋅溶液中電化學沉積上柱狀氧化鋅納米晶,從而制的氧化鋅/氧化石墨烯復合光開關材料。本發明制得復合材料,具有成膜性好、厚度均一、光學與電學性能可調控、光電響應時間短等優點,且制備過程簡單,產率高,周期短。
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