本發明提供了一種選擇性降解環丙沙星的分子印跡催化膜及制備方法,步驟如下:步驟1、制備類石墨碳化氮g?C3N4;步驟2、制備貴金屬負載半導體復合材料;步驟3、制備選擇性降解環丙沙星的分子印跡催化膜;本發明制備的材料可以有效地實現對混合污水體系中目標污染物的優先選擇性吸附并降解的目的,后處理簡單,便于光催化劑的多次回收利用,有效地避免二次污染,具有較強的選擇性處理抗生素廢水的優點。
聲明:
“選擇性降解環丙沙星的分子印跡催化膜及制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)