本發明公開了一種基于微流控型雙光子激光直寫技術的超長三維納米光纖制備系統及方法,屬于光學微納米結構制備技術領域。該系統包括三維打印裝置、光學成像裝置和控制器;將設計好的納米光纖導入控制器中,通過光學成像裝置對打印的納米光纖進行實時監測,并且調整激光聚焦位置;三維打印裝置將聚焦后的飛秒激光照射至空芯光纖中的光敏復合材料,引發雙光子聚合為納米光纖,在泵的驅動下,納米光纖隨著光敏復合材料流動至顯影腔體內,在顯影液作用下,去除多余未聚合光敏復合材料,留下來制備好的納米光纖。本發明發明采用微流控雙光子直寫技術,能夠制備超長且具有復雜曲率的三維納米光纖。
聲明:
“基于微流控型雙光子激光直寫技術的超長三維納米光纖制備系統及方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)