本發明公開了一種制備石墨/碳化硅致密復合材料的方法,在石墨件表面沉積碳化硅之前,先在石墨件表面涂刷一層碳化硅顆粒層作為過渡層,再CVD沉積碳化硅涂層。本發明通過在石墨件表面涂刷一層碳化硅顆粒作為過渡層,再CVD沉積碳化硅涂層,因為碳化硅顆粒過渡層存在小的孔洞,其表面上沉積的碳化硅滲透進入孔洞,使得涂層與基體結合更為緊密;同時,本發明的方法周期短、電耗低,有效解決石墨件的純度和涂層結合力問題,防止給后續工段引入雜質。
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