本發明公開了最高分辨率為5nm含酰胺基團含氟嵌段的納米復合材料的制備及在DSA光刻領域的應用,構成所述納米復合材料的嵌段聚合物的制備原料包括第一單體和第二單體,所述第一單體包括至少一種(甲基)丙烯酸酯類化合物;所述第二單體包括至少一種可功能化小分子化合物;所述可功能化小分子化合物中含有氨基。所述制備方法包括以下步驟:先將第一單體聚合制得聚合物前體,再將制得的聚合物前體與第二單體進行酯氨解的小分子反應即得。本發明方案DSA材料在納米催化劑、納米儲能器件或納米生物醫藥的制備中均具有良好的應用。與現有技術相比,該材料具有分辨率可達5nm、潛在缺陷率低、刻蝕對比度高且應用前景好等優點。
聲明:
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