本發明屬于納米材料領域,具體公開了一種紫外阻隔型光致發光聚二甲硅氧烷(PDMS)復合材料及其制備方法。本發明將硅納米晶、納米二氧化硅、乙烯基聚硅氧烷、硅樹脂、鉑催化劑、硅氫加成反應抑制劑和含氫硅油按比例混合均勻,然后在20~160℃下固化制得紫外阻隔型光致發光PDMS復合材料。本發明制備的功能型PDMS材料能夠完全屏蔽波長在400nm以下的紫外線,具有優異的紫外阻隔性能(紫外防護系數在40~500+)、光致發光等性能,且熒光量子產率穩定,使用壽命長,可廣泛用于生物成像、醫用診斷、紡織品、化妝品、可穿戴設備、紡織和防偽標示等領域。
聲明:
“紫外阻隔型光致發光PDMS復合材料及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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