本發明公開了一種鈣鈦礦型Relaxor?PT固溶體單晶薄膜復合材料及制備方法,該制備方法包括,1)在襯底基板上沉積缺陷捕獲層,再在缺陷捕獲層上沉積氧化埋層,以形成復合基板;2)通過離子注入法將一種或混合離子注入到鈣鈦礦型Relaxor?PT固溶體單晶晶圓,以形成薄膜層、損傷層和余料層;3)將薄膜層和氧化埋層鍵合以使復合基板和鈣鈦礦型Relaxor?PT固溶體單晶形成鍵合體,對鍵合體加熱預定時間,使薄膜層與余料層分離,分離后的薄膜層及殘余部分損傷層與復合基板一起形成初始單晶薄膜復合材料,最后通過化學機械拋光去除損傷層,得到鈣鈦礦型Relaxor?PT固溶體單晶薄膜復合材料。本發明提高了器件的工作效率和溫度穩定性等性能指標,為器件的半導體集成和小型化提供了便利。
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