本發明提供了一種由納米鈦層、納米碳層以及鈦硅碳層組成的多層復合膜。該多層復合??勺鳛樘蓟杓捌鋸秃喜牧系倪B接層而應用。其優點是:利用高活性金屬鈦層與基體碳化硅之間的反應,打破基體碳化硅中的硅碳共價鍵,可形成較強的界面過渡層碳化鈦;鈦與碳反應放熱有利于連接致密化,降低成本;耐高溫耐腐蝕性能優良、且在高溫下具有準塑性的三元層狀陶瓷鈦硅碳層可在高溫緩解連接界面的崩塌式失效,并且可彌補碳化硅及其復合材料的表面缺陷,降低對碳化硅及其復合材料的表面加工精度要求,提高生產效率,降低生產成本。
聲明:
“多層復合膜、其制備方法以及作為碳化硅及其復合材料連接材料的應用” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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