本發明提出一種拉張環境下定量刻畫斷層走滑位移的方法,屬于地質勘探技術領域,能夠定量刻畫不同地質歷史時期斷層的走滑位移量。該技術方案包括以下步驟:選取研究區,根據地質數據標定層位并做層位解釋,利用斷層的地震響應特征識別斷層,篩選出正斷層,通過位于不同地震剖面中的若干斷層點進行正斷層解釋;對同一正斷層對應的若干斷層點數據進行網格化處理得到三維曲面,將多個正斷層的三維曲面組合形成正斷層三維模型;通過逐層掃描研究區地層得到水平切片,將水平切片與正斷層三維模型疊加得到切片組合圖,選取切片組合圖中的斷層兩側巖層存在地震相錯動的正斷層,并以斷層兩側巖層地震相錯動的位移量來表征斷層走滑位移量。
聲明:
“拉張環境下定量刻畫斷層走滑位移的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)