一種硒化鎘量子點/石墨烯/二氧化鈦復合材料及其制備方法,屬于半導體光催化材料技術領域。所述硒化鎘量子點/石墨烯/二氧化鈦復合材料由硒化鎘量子點、石墨烯和二氧化鈦復合而成,所述二氧化鈦納米片形成于層狀石墨烯之上,硒化鎘量子點分布于石墨烯/二氧化鈦復合材料之上;其中,二氧化鈦納米片的厚度為15?30nm、長度為50?100nm,石墨烯的長度為500?2000nm,硒化鎘量子點直徑為2.1?3.5nm。本發明方法得到的復合材料具有良好的光催化降解能力和殺菌活性,且制備方法簡單,操作方便,成本低廉。
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“硒化鎘量子點/石墨烯/二氧化鈦復合材料及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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