本發明提供一種記憶合金基納米層狀復合材料及其制備方法。所述記憶合金基納米層狀復合材料,以體積分數為20~80%的X金屬作為增強相,NiTi形狀記憶合金作為基體;NiTi形狀記憶合金與增強相的金屬以片層狀交替排列,形成層狀復合材料,所述增強相的片層厚度達到微納米尺度,X金屬為Nb、Cu、Ta、Ni、Mo、W中的一種。本發明采用納米層狀復合材料形式,以NiTi形狀記憶合金作為基體,制備了記憶合金基納米層狀復合材料。得益于納米增強相和NiTi形狀記憶合金基體的大彈性應變,以及納米層狀材料本身具有的包括可以實現大塊體形式等諸多優勢,該記憶合金基納米層狀復合材料有望在大塊體材料中可控地實現高強度和高韌性。
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