一種高分辨率超長一維納米圖案制備方法,其特征是包括如下步驟:步驟1)在平整襯底(1)上交替沉積不可腐蝕納米薄膜層(2)和可腐蝕納米薄膜層(3);步驟2)切開平整襯底(1)、不可腐蝕納米薄膜層(2)和可腐蝕納米薄膜層(3),在斷口選擇性地對可腐蝕納米薄膜層(3)進行腐蝕,使得其與不可腐蝕納米薄膜層(2)之間形成落差。本發明方法可應用于高分辨率超長多種一維納米圖案的制備,且該方法制備分辨率高,工藝簡單,能高效率,低成本地在多種功能材料表面制備一維納米圖案,能夠很好的滿足實際需求。
聲明:
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