一種納米制造系統,包括原子粒子產生系統,原子粒子產生系統與氣源連通,原子粒子產生系統與原子輸運系統相連,原子輸運系統與真空工作室相連,真空工作室內設置有納米孔陣列掩模板,納米孔陣列掩模板邊緣上方為光學對準系統,下方為納米級電子對準系統,納米孔陣列掩模板下方設置有鋪設有襯底材料;氣源進入原子粒子產生系統獲得能量與動量后產生原子粒子,原子粒子進入真空工作室,支架調節控制系統實現納米孔陣列掩模板與襯底材料的相對運動,實現掩模功能與納米圖形加工;本發明具有控制精度高、加工尺度小、對襯底材料損傷小、電學影響小、系統結構相對簡單、功能材料多樣以及結構圖形化方便的特點。
聲明:
“納米制造系統” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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