本實用新型涉及一種X熒光光譜鍍層分析儀,包括主支架、測試組件、以及樣品平臺,測試組件固定于主支架的上的一升降平臺框上,樣品平臺位于主支架的底部且位于升降平臺框的下方,升降平臺框與主支架之間設有滑軌,升降平臺框上連有一Z軸電機,樣品平臺上連有X軸電機與Y軸電機,測試組件底部兩側設有位置傳感器,測試組件底部中間位置設有高度激光裝置,測試組件包括一攝像頭。提高了儀器的自動化程度,擴大了可測試樣品的范圍;位置傳感器保護了測試組件和被測樣品;可實時觀測樣品的測試過程;樣品平臺和測試組件位置可調節。其適用于環境保護、臨床醫學、農業、地質冶金、制藥行業、石化等行業的X熒光光譜鍍層分析之用。
聲明:
“X熒光光譜鍍層分析儀” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)