本發明公開了一種測定氧化鉬中鉬含量的X熒光熔片制備及分析方法,涉及冶金成分測定分析技術領域,加入抑制劑,在抑制劑的作用下,低溫預熔,然后在高溫狀態下將熔劑與預熔后的產物熔制成穩定、均一、透明的玻璃片。采用儀器分析替代化學分析,解決了化學分析污染大、周期長、人員素質要求過高等問題,整個分析周期短、操作步驟少,實現了快速、準確、環保地測定??赏茝V運用于冶金生產企業及鋼鐵企業的生產過程控制以及使用前驗收檢驗等,大大促進了冶金分析領域儀器分析自動化的提高。
聲明:
“測定氧化鉬中鉬含量的X熒光熔片制備及分析方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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