權利要求
1.Pd修飾的SnO 2/rGO納米復合材料的制備方法，其特征在于，所述方法包括以下步驟： 步驟1：提供微米級氧化石墨烯； 步驟2：將錫源、微米級氧化石墨烯和鈀源混合，加入酸，超聲分散，形成均勻混合溶液； 步驟3：將所述均勻混合溶液進行水熱反應，離心分離，取下層沉淀干燥； 步驟4：將干燥后的固體粉末燒結，制得Pd修飾的SnO 2/rGO納米復合材料。2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于： 步驟1中，所述提供微米級氧化石墨烯包括：將高錳酸鉀分批加入到鱗片狀石墨與H 2SO 4和H 3PO 4的混合溶液中，得到混合液，然后將混合液倒入含H 2O 2的冰凍去離子水中，并攪拌；過濾，然后將濾出液離心，得到固體產物，將所述固體產物放入酸溶液中攪拌；用去離子水洗滌至中性，再次離心取上清液，獲得分散于去離子水中的氧化石墨烯混合液，凍干后獲得微米級氧化石墨烯； 優選地，步驟1中，所述提供微米級氧化石墨烯包括：將高錳酸鉀分批加入到鱗片狀石墨與H 2SO 4和H 3PO 4的混合溶液中，保持35～40℃恒溫攪拌；穩定之后加熱至45～50℃攪拌10～14小時，冷卻至室溫，得到混合液；將混合液倒入含質量分數為30％H 2O 2的冰凍去離子水中，控制溫度，并攪拌12～16小時；將雜質篩出并通過聚酯纖維過濾，將濾出液放入離心機離心，得到固體產物，將所述固體產物放入HCl溶液中攪拌12～16小時；用去離子水洗滌至中性，再次離心取上清液，獲得分散于去離子水中的氧化石墨烯混合液，凍干后獲得微米級氧化石墨烯； 優選地，H 2SO 4與H 3PO 4的體積比為9：1。 3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于： 步驟1中，濾出液離心轉速設置為4000～5000rpm，水洗至中性后離心提純轉速設置為8000～10000rpm。 4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于： 步驟2中，所述錫源為SnCl 4·5H 2O，所述鈀源為PdCl 2； 優選地，步驟2中，所
聲明：
“Pd修飾的SnO2/rGO納米復合材料及制備方法、傳感器及制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)
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編輯：中冶有色網
來源：中國科學技術大學
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2025年07月23日 ~ 26日 
