本發明屬于陶瓷磚制備技術領域,具體的涉及一種自清潔陶瓷磚及其制備方法。所述的自清潔陶瓷磚,包括陶瓷磚基體以及涂覆于陶瓷磚基體表面的自清潔涂層;所述的陶瓷磚基體由以下原料組成:高嶺土、煅燒鋁礬土、硅藻土、焦寶石、莫來石、菱鎂礦、鋰基蒙脫土、偏硅酸鈣、硅酸鋯、碳化硅;所述的自清潔涂層,包括以下原料:納米氧化鋅、納米氧化鈰、1H,1H,2H,2H?十三氟辛基三甲基硅烷、二甲基硅油、十七氟癸基三乙氧基硅烷。本發明所述的自清潔陶瓷磚,陶瓷磚基體與自清潔涂層的結合力強,具有很好的耐高溫性能和機械性能;自清潔涂層滿足結構致密的同時,還具有優異的憎水性、憎油性、機械性能和耐腐蝕性。
聲明:
“自清潔陶瓷磚及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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