廣東佛山有色金屬探礦技術理論與應用

礦山金屬探測機器人 1209     

 0

一種礦山金屬探測機器人，它包含底座、電機、支撐架、擺動軸、轉柱、支撐臂、活塞缸、手臂、標記缸和探測臂；所述底座下部設計有滾輪；所述底座表面前后兩端安裝有電機；所述底座表面中部安裝有支撐架；所述支撐架內部安裝有搖擺缸；所述支撐架上部安裝有擺動軸；所述擺動軸和搖擺缸連接；所述擺動軸上部連接轉柱；所述擺動軸中部通過螺旋安裝支撐臂；所述支撐臂和轉柱之間通過螺旋固定活塞缸；所述支撐臂木端連接手臂；所述手臂表面設計有標記缸；所述手臂另一端連接探測臂；所述探測臂前端安裝有電磁圈。

鈣鈦礦納米晶隨機激光發射機制的探測裝置 813     

 0

本實用新型公開了一種鈣鈦礦納米晶隨機激光發射機制的探測裝置，包括：激光器、工作臺、光纖探頭、透鏡、光譜儀，工作臺用于放置用銫鉛溴納米晶膠體溶液干結而成納米晶薄膜，透鏡的焦面位于工作臺的臺面上，激光器用于發出400nm的激光，激光通過透鏡聚焦在所述納米晶薄膜上，光纖探頭的探測端的中軸線與所述臺面呈10?60度夾角，所述光纖探頭用于接收所述納米晶薄膜的發射光，并將所述發射光傳送給光譜儀。通過在工作臺上放置納米晶薄膜，利用激光器發出400nm的激光，使得納米晶薄膜應激發出發射光，通過與臺面呈一定角度的光纖探頭對所述發射光進行接收，并將發射光傳送給光譜儀，通過光譜儀完成對發射光的探測。本裝置可用于隨機激光發射試驗中。

鈣鈦礦納米晶隨機激光發射機制的探測方法及裝置 1197     

 0

本發明公開了一種鈣鈦礦納米晶隨機激光發射機制的探測方法及裝置，所述方法包括：采用熱注射法制備出邊長為8nm?12nm的零維銫鉛溴鈣鈦礦納米晶，將所述納米晶分散在環己烷溶劑中，得到濃度為0.03?0.06mol/L銫鉛溴納米晶膠體溶液；將所述銫鉛溴納米晶膠體溶液滴涂在載片上，干結得到納米晶薄膜；激光器發出400nm的激光；所述400nm的激光通過透鏡聚焦在所述納米晶薄膜上，所述納米晶薄膜應激得到發射光；光纖探頭對所述發射光進行接收，并傳送到光譜儀中。裝置包括：激光器、工作臺、光纖探頭、透鏡、光譜儀。本發明創造的方法及其裝置可對納米晶的隨機激光發射機制進行簡單的探測?？捎糜陔S機激光發射試驗中。

二維鈣鈦礦薄膜及含其的光電探測器的反溶劑制備方法 893     

 0

本發明屬于光電探測器技術領域，公開了二維鈣鈦礦薄膜及含其的光電探測器的反溶劑制備方法。該二維鈣鈦礦薄膜的反溶劑制備方法，包括以下步驟：(1)將基底置于等離子清洗設備中進行改性處理，制得改性的基底；(2)取步驟(1)制得的改性的基底加熱，然后在改性的基底上滴加鈣鈦礦前驅體溶液，再滴加反溶劑，反應，退火，制得所述二維鈣鈦礦薄膜；所述反溶劑包括甲苯、丙酮、氯苯或氯仿中的至少一種。在二維鈣鈦礦薄膜上制備電極，制得光電探測器。該光電探測器的響應時間低于85ms，經過近90次循環光電流衰減不到7.7％，最佳響應度為200?670μA/W，最大光電流為3.5?13.2nA。

鈣鈦礦薄膜及含其的光電探測器的反溶劑制備方法 856     

 0

本發明屬于光電探測器技術領域，公開了鈣鈦礦薄膜及含其的光電探測器的反溶劑制備方法。該反溶劑制備方法，包括以下步驟：(1)將基底置于等離子清洗設備中進行改性處理，制得改性的基底；(2)取步驟(1)制得的改性的基底加熱，然后在改性的基底上滴加鈣鈦礦前驅體溶液，再滴加反溶劑，反應，退火，制得鈣鈦礦薄膜；反溶劑包括甲苯、丙酮、氯苯或氯仿中的至少一種；退火的溫度為78?122℃。光電探測器具有良好的光電性能，同時具有高的響應度、外量子效率和比探測率，光電探測器的響應度為200?700μA/W，外量子效率大于0.01，比探測率為108?109Jones。