工作原理
MP—1C采用單盤獨立驅動結構,搭載直流電機與變頻控制系統,通過按鍵實現50-1500r/min無極變速調節。試樣經夾具固定于拋光盤上方,電機驅動直徑250mm的鑄鐵鍍鉻拋光盤旋轉,配合碳化硅、氧化鋁等磨料或拋光液,逐級去除試樣表面氧化層、劃痕及變形層。設備內置冷卻水接口,可外接循環系統降低拋光區域溫度,防止材料過熱相變,確保試樣組織結構完整。
應用范圍
該設備覆蓋多場景材料表面處理需求:
金相分析:制備鋼鐵、鋁合金、銅合金等金屬的標準觀察試樣,滿足表面平整度≤1μm要求;
失效分析:處理斷裂件、腐蝕件的局部表面,輔助定位裂紋起源及擴展路徑;
教學實驗:支持材料科學、機械工程等專業的基礎磨拋教學,演示金屬表面處理工藝。
技術參數
拋光盤規格:直徑250mm,厚度20mm,材質鑄鐵鍍硬鉻;
轉速范圍:50-1500r/min無極可調,精度±10r/min;
加荷方式:手動加壓,范圍0-30N;
制樣能力:單次處理1-2個φ30mm試樣,制樣時間1-10分鐘可調;
整機功率:400W,輸入電壓220V/50Hz。
產品特點
按鍵變速控制:一鍵切換轉速檔位,操作直觀,無需復雜培訓;
輕量化設計:整機重量僅25kg,便于實驗室或車間靈活移動;
安全防護:配備透明防護罩與緊急停機按鈕,防止磨料飛濺及誤操作風險;
維護便捷:開放式結構便于清潔拋光盤及更換磨料,降低維護成本。