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            江蘇蘇青水處理工程集團有限公司
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            單點膜厚測試儀

            單點膜厚測試儀

            396
            規格/型號:F3
            品牌:納騰
            應用領域:檢測設備
            產地:上海 - 上海
            廠家/供應商:上海納騰儀器有限公司
            咨詢電話::02164283335(請說明信息源自“中冶有色網”)
            更新時間:2025-07-08
            級別:待認證

            單點膜厚測試儀說明介紹

            F3單點膜厚測試儀

            F3單點膜厚測試儀


            KLA的Filmetrics系列利用光譜反射技術實現薄膜厚度的精確測量,其測量范圍從nm-mm,可實現如光刻膠、氧化物、硅或者其他半導體膜、有機薄膜、導電透明薄膜等膜厚精確測量,被廣泛應用于半導體、微電子、生物醫學等領域。Filmetrics具有F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t等多款產品,可測量從幾mm到450mm大小的樣品,薄膜厚度測量范圍1nm到mm級。F3-sX可測試眾多半導體及電介質層的厚度,可測大厚度達3毫米。F3-sX系列配置10微米的測試光斑直徑,因而可以快速容易的測量其他膜厚測試儀器不能測量的材料膜層。

            測量原理-光譜反射

            光譜橢圓偏振儀(SE)和光譜反射儀(SR)都是利用分析反射光確定電介質,半導體,和金屬薄膜的厚度和折射率。兩者的主要區別在于橢偏儀測量小角度從薄膜反射的光,而光譜反射儀測量從薄膜垂直反射的光。光譜反射儀測量的是垂直光,它忽略偏振效應(絕大多數薄膜都是旋轉對稱)。因為不涉及多種移動設備,光譜反射儀成為簡單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更強大透光率分析。光譜反射儀通常是薄膜厚度超過10um的首選,而橢偏儀側重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之間,兩種技術都可用。

            一、主要功能

            主要應用

            測量較厚薄膜厚度、折射率、反射率和穿透率:

            技術能力

            光譜波長范圍:380-1580nm

            厚度測量范圍:10nm-3mm

            測量n&k小厚度:50nm

            準確度:取較大值,50nm或0.2%

            精度:5nm

            穩定性:5nm

            光斑大?。?0μm

            樣品尺寸:直徑從1mm到300mm或更大

            二、應用

            半導體薄膜:光刻膠、工藝薄膜、介電材料

            液晶顯示:OLED、玻璃厚度、ITO

            光學鍍膜:硬涂層厚度、減反涂層

            高分子薄膜:PI、PC

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            上海納騰儀器有限公司
            企業認證:
              
            所屬領域:
            檢測設備
            企業性質:
            -
            經營范圍:
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