F60全自動膜厚測試儀
一、簡介
KLA的Filmetrics系列利用光譜反射技術實現薄膜厚度的精確測量,其測量范圍從nm-mm,可實現如光刻膠、氧化物、硅或者其他半導體膜、有機薄膜、導電透明薄膜等膜厚精確測量,被廣泛應用于半導體、微電子、生物醫學等領域。Filmetrics具有F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t等多款產品,可測量從幾mm到450mm大小的樣品,薄膜厚度測量范圍1nm到mm級。FilmetricsF60系列的產品可像F50產品一樣測繪薄膜厚度和折射率,但它增加了許多用于生產環境的功能。這些功能包括凹槽自動檢測、自動基準確定、全封閉測量平臺、預裝軟件的工業計算機,以及升級到全自動化晶圓傳輸的機型。不同的F60-t儀器根據波長范圍加以區分。較短的波長(例如,F60-t-UV)一般用于測量較薄的薄膜,而較長的波長則可以用來測量更厚、更不平整以及更不透明的薄膜。.
測量原理-光譜反射
光譜橢圓偏振儀(SE)和光譜反射儀(SR)都是利用分析反射光確定電介質,半導體,和金屬薄膜的厚度和折射率。兩者的主要區別在于橢偏儀測量小角度從薄膜反射的光,而光譜反射儀測量從薄膜垂直反射的光。光譜反射儀測量的是垂直光,它忽略偏振效應(絕大多數薄膜都是旋轉對稱)。因為不涉及多種移動設備,光譜反射儀成為簡單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更強大透光率分析。光譜反射儀通常是薄膜厚度超過10um的首選,而橢偏儀側重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之間,兩種技術都可用。而且具有快速,簡便,成本低特點的光譜反射儀通常是更好的選擇。
二、主要功能
測量厚度、折射率、反射率和穿透率
?單層膜或多層膜疊加
?凹槽自動檢測
?自動基準確定
?全自動化晶圓傳輸
l技術能力
光譜波長范圍:190-1700nm
厚度測量范圍:5nm-450μm
集成平臺/光譜儀/光源裝置(不含平臺)
4",6"and200mm參考晶圓
TS-SiO2-4-7200厚度標準
備用燈
三、應用
半導體制造:光刻膠、氧化物、氮化物
液晶顯示器:液晶間隙、聚酰亞胺保護膜、納米銦
錫金屬氧化物
生物醫療原件:聚合物/聚對二甲苯涂層、生物膜/氣泡球厚度、藥物涂層支架
光學鍍膜:硬鍍膜、增透鍍膜、Filters濾光