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            江蘇蘇青水處理工程集團有限公司
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            磁控濺射靶源

            磁控濺射靶源

            308
            規格/型號:暫無
            品牌:科睿設備
            應用領域:檢測設備
            產地:上海 - 上海
            廠家/供應商:科睿設備有限公司
            咨詢電話::852-2710-8200(請說明信息源自“中冶有色網”)
            更新時間:2025-06-16
            級別:待認證

            磁控濺射靶源說明介紹

            磁控濺射靶源

            磁控濺射靶源


            磁控濺射靶源是一種專為超高真空系統(1e-11 Torr)設計的商業用濺射源,能夠在不配置彈性墊圈的結構中烘烤至250℃,實現超高純度的濺射沉積。它適用于金屬、電介質和復合物的沉積。設備提供多種靶材尺寸(如1英寸、2英寸、3英寸等),靶材厚度最低可達4mm,有效節約靶材。濺射源法蘭帶有氣體管道,提升濺射操作時的真空度。支持手動或馬達驅動擋板,可原位傾斜(±30°),配備氣體流量控制,支持全自動化進程,冷卻水流量低(僅0.5L/min),占用空間小,適合高真空環境使用。

            我司提供的磁控濺射源是目前唯一和超高真空系統(1e-11torr)匹配的商業用濺射源。 在不配置彈性墊圈的結構中,可烘烤至250℃。在匹配的超高真空環境下,可以實現超高純度的濺射沉積。

            應用范圍:

            金屬沉積;

            電介質沉積;

            復合物沉積。

            技術參數:

            不同型號濺射源可以選用不同靶材尺寸 .1”,2”,3” 等各種靶材尺寸均可使用;

            靶材厚度薄,最低4mm,節約靶材;

            濺射源法蘭上帶有氣體管道,以便提高操作濺射源時的真空。

            手動/馬達驅動 擋板

            濺射源可設計成原位傾斜,傾斜角度(+/-30o)

            氣體流量控制

            進程全自動化

            真空中可烘烤至250攝氏度;

            占用空間小;

            冷卻水流量低,僅0.5L/min

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            科睿設備有限公司
            企業認證:
              
            所屬領域:
            檢測設備
            企業性質:
            -
            經營范圍:
            -
            聯系電話:
            852-2710-8200
            詳細地址:
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