膜厚測量儀
簡要描述:Thetametrisis膜厚測量儀FR-pRo是一個模塊化和可擴展平臺的光學測量設備,用于表征厚度范圍為1nm-1mm 的涂層。
膜厚測量儀是一種用于測量薄膜、涂層或其它薄層材料厚度的儀器。膜厚測量儀通常采用不同的工作原理和技術來實現準確的厚度測量,常見的膜厚測量儀包括:
1、X射線熒光測厚儀:利用X射線照射樣品表面,通過測量熒光光譜來確定薄膜厚度。
2、聲表面波測量儀:利用超聲波在薄膜表面傳播的特性來測量薄膜厚度。
3、光學干涉儀:利用光學干涉原理測量薄膜的厚度,常見的有白光干涉儀和激光干涉儀。
4、磁感應測厚儀:通過測量磁感應信號來確定薄膜或涂層的厚度。
膜厚測量儀在工業生產、材料研發、電子設備制造等領域廣泛應用,可幫助用戶準確測量和控制薄膜的厚度,確保產品質量和性能。使用膜厚測量儀時,需要根據實際情況選擇適合的儀器和測量方法,并注意儀器的操作規范和安全注意事項。
Thetametrisis膜厚測量儀FR-pRo概述:
FR-pRo膜厚儀: 按需搭建的薄膜特性表征工具。
FR-pRo膜厚儀是一個模塊化和可擴展平臺的光學測量設備,用于表征厚度范圍為1nm-1mm 的涂層。
FR-pRo膜厚儀是為客戶量身定制的,并廣泛應用于各種不同的應用。
比如:
吸收率/透射率/反射率測量,薄膜特性在溫度和環境控制下甚至在液體環境下的表征等等…
Thetametrisis膜厚測量儀FR-pRo應用:
1、大學&研究實驗室
2、半導體行業
3、高分子聚合物&阻抗表征
4、電介質特性表征
5、生物醫學
6、硬涂層,陽極氧化,金屬零件加工
7、光學鍍膜
8、非金屬薄膜等等…
FR-pRo膜厚儀可由用戶按需選擇裝配模塊,核 心部件包括光源,光譜儀(適用于 200nm-2500nm 內的任何光譜系統)和控制單元,電子通訊模塊。
此外,還有各種各種配件,比如:
1.用于測量吸收率/透射率和化學濃度的薄膜/試管架;
2.用于表征涂層特性的薄膜厚度工具;
3.用于控制溫度或液體環境下測量的加熱裝置或液體試劑盒;
4.漫反射和全反射積分球。
通過不同模塊組合,蕞終的配置可以滿足任何終端用戶的需求。
Specificatins 規格:
工作原理:
白光反射光譜(WLRS)是測量垂直于樣品表面的某一波段的入射光,在經多層或單層薄膜反射后,經界面干涉產生的反射光譜可確定單層或多層薄膜(透明,半透明或全反射襯底)的厚度及 N*K 光學常數。
* 規格如有更改,恕不另行通知; ** 厚度測量范圍即代 表光譜范圍,是基于在高反射襯底折射率為 1.5 的單層膜測量厚度。