真空敏化爐在冶金工業中扮演著重要角色,其應用范圍廣泛,效益顯著。這種爐型主要用于在真空環境下進行金屬及其合金的熔煉和精制,包括真空蒸餾、礦石及其半產品的真空分離,金屬化合物真空還原、鋼液爐外真空脫氣和精煉、金屬真空熔鑄、真空燒結,真空熱處理、真空釬焊及真空固態接合等多種工藝方法。真空環境在冶金過程中具有一系列的特點,如物質與殘余氣體分子間的化學作用十分微弱,適宜對黑色金屬、稀有金屬,超純金屬及其合金、半導體材料的熔煉和精制。
采用有坩堝底鑄式真空感應熔煉及惰性氣體霧化法制備金屬及金屬合金的微晶或非晶球形粉末。適用于高溫合金、特殊鋼、銅合金、鋁合金等材料的粉體研發與制備。
真空熱處理釬焊設備是一種專用于金屬材料高真空熱處理及真空釬焊的先進設備,廣泛適用于不銹鋼、鈦及鈦合金、高溫合金等零件的真空退火、回火、消除應力處理以及真空除氣等工藝。設備采用立式底裝料結構,有效容積可根據客戶需求定制,提供800℃、1350℃、1600℃三種最高設計溫度可選。其極限真空度優于5×10??Pa,壓升率低至≤0.27Pa/h,確保高真空環境下的穩定處理效果。全金屬加熱室設計,溫度均勻性優于±5℃,符合航空行業標準HB5425。
超高真空退火爐是專為金屬薄膜和金屬絲的退火與還原處理等熱處理工藝實驗設計的設備,具備極限真空8x10??Pa和工作真空8x10??Pa(在1000℃退火溫度下)的性能指標,確保在高溫下維持高真空環境。該爐采用中400x400(mm)立式柱狀雙水冷不銹鋼結構,能夠實現常溫至1500℃的溫度變化范圍,具備程序控溫和高精度控溫能力,均溫區尺寸為Ф80x120(mm)。系統由真空抽氣機組、真空室、測量系統、加熱控溫系統、電動升降系統、氣路系統、液氮冷阱及臺架等組成,并通過計算機實現控制,滿足長時間高溫處理需求。
TH-1000臥式真空退火爐專為高溫合金的光亮退火和真空除氣設計,具備5x10??Pa的極限真空度和Ф200x1100(mm)的真空室結構,確保高效處理。最高加熱溫度可達1000℃,均溫區Ф150x600(mm)內溫度偏差小于±2℃,加熱至850℃僅需不到2小時。設備采用外加熱方式,配備多路熱電偶以維持精確的溫度控制。主要由真空室、測量、抽氣、加熱及電控系統組成,滿足高精度熱處理需求。
真空退火爐是一種臥式結構的高效熱處理設備,具備不銹鋼雙層水冷真空爐體和前門觀察窗。其系統空載極限真空度可達≤8x10??Pa,工作真空度在800℃時保持≤1x10?3Pa,泄漏率不大于1x10??Pa/L·s。分子泵能在30分鐘內將真空度降至1x10?3Pa,壓升率控制在0.67Pa/h以內。最高加熱溫度可達1300℃,工作爐溫范圍為600℃至1250℃,溫度均勻性為±4℃,測溫精度±1℃,升溫速度和降溫速率可控。該設備采用導電智能控溫表,確保精確的溫度控制。
高真空管式氮化爐是一種臥式管式外加熱爐,集成了抽氣系統和手套箱系統,安裝在可移動臺架上,便于操作。該爐具備出色的真空性能,系統極限真空度可達7×10??Pa,工作真空度為5×10?3Pa,漏率僅為1×10??Pa·L/s。加熱溫度范圍從室溫至450℃,樣品表面溫度可達250℃,均勻區軸向長度250mm,控溫精度為±10℃。配備5KW偏壓電源,電壓最大2kV,脈沖頻率40~60KHz可調,并具有多重保護功能。手套箱設計便于樣品處理,氣路系統可控制N?、Ar氣體流量,整個系統還配有冷卻循環水裝置和斷水斷電聯鎖保護,確保安全穩定運行。
高真空加熱裝置是一種先進的材料處理設備,具備優異的真空性能,極限真空度可達<6.7x10??Pa,漏率優于1.0x10??Pa·L/s,采用分子泵+干泵的抽氣機組,提供快抽和慢抽兩種方式。裝置配備316L不銹鋼制成的真空罐體,內部尺寸至少為直徑中50mmx100mm,加熱爐內最高加熱溫度達800℃,控溫精度為±1℃,且外殼溫度低于200℃。此外,裝置還具備氙氣循環降溫系統,保護罐體密封口,以及包含真空機組控制、真空度和溫度顯示及系統聯鎖保護功能的電控系統。
該真空管式爐具備優異的真空性能,系統極限真空度可達到優于3.0×10??Pa,而系統漏率僅為1.0×10??Pa·L/s,這保證了爐內能夠在極低的氣壓下進行高溫處理,適合對材料進行精密的熱處理工藝。這些真空指標對于確保材料處理過程中的高質量和高純度至關重要,如陶瓷基板的退火和真空燒結等應用。
高溫高真空試驗爐是一種用于高溫真空環境下的材料性能測試設備,具備以下特點:在1700K工作溫度下,爐膛內真空度優于1.0×10??Pa,真空計測量范圍寬廣(5.0×10??Pa~1.0×10?Pa)。設備設計滿足長時間穩定工作溫度不低于1500℃,最高可達1550℃,樣品區域溫度均勻性在1200K~1700K范圍內優于±3K。爐膛有效加熱空間覆蓋樣品旋轉空間(約Ф300mm×200mm),開門尺寸滿足樣品架的取放和安裝。真空腔體外表溫度控制在不高于60℃。
鈹真空熔煉蒸餾提純爐是一種專門用于鈹金屬提純的設備,采用中頻感應加熱技術,在真空環境中對鈹金屬進行熔煉和蒸餾。通過坩堝口上方的水冷收集器,蒸餾后的高純度鈹金屬得以收集,實現高效提純。該設備一次蒸餾量可達3000克,具備工業化生產規模,操作簡便,且坩堝檢查、冷凝器拆裝及腔體清理均十分方便,適合大規模生產高純度鈹金屬。