本發明提供了一種低介電常數阻擋層工藝中的預處理的監控方法以及監控裝置,該方法包括:檢測進行了不同時間的預處理后的硅襯底的多個薄膜參數;根據所述多個薄膜參數建立統計過程控制曲線;設定預設有閾值的控制線;如果所述統計過程控制曲線的范圍在所述閾值之內,則判定所述預處理正常;如果所述統計過程控制曲線的范圍超出所述閾值,則判定所述預處理不正常。本發明可有效預防預處理工藝的失效,從而提高產品的可靠性與穩定性。
聲明:
“低介電常數阻擋層工藝中的預處理的監控方法及裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)