本實用新型提供一種樣品研磨輔助裝置,包括:襯底、依次疊加形成于所述襯底上表面的若干層薄膜;及用于容置研磨樣品的通槽,所述通槽貫穿所述襯底及所有所述薄膜。該輔助裝置適用于28?nm及以下先進制程的產品失效分析,將要研磨的樣品粘貼在通槽中,使得樣品表面與輔助裝置表面在同一水平面上,在研磨過程中,通過光學顯微鏡觀察輔助裝置上的圖案就可以準確地判斷研磨到了哪一層,大大節約了反復去電子顯微鏡確認的時間,也避免了電子顯微鏡反復照射對樣品造成的傷害。同時,由于樣品放置在輔助裝置的中央,通過觀察輔助裝置前后左右四個方向所在的層就可以判斷研磨的平整性,從而及時調整研磨的力度,保證樣品大范圍的平整性。
聲明:
“樣品研磨輔助裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)