本發明提供一種具有微影光阻檢測圖案的光刻及其檢測方法,其利用形成于光刻上的四個檢測圖案來對第一層光阻的曝光情況進行光刻置放判斷,其克服了傳統程中需要完成第一層與第二層微影光阻圖案化后才能對第一光刻置放進行校對的缺陷,進而避免制程成本上的浪費,且根據檢測圖案的圖形的扭曲位置可提供工程師獲得更多制程失效的相關信息。
聲明:
“具有微影光阻檢測圖案的光刻及其檢測方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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