本發明屬于MEMS器件加工監測技術領域,公開了一種DRIE工藝誤差監測系統及方法。本發明結合測試數據庫和有限元仿真數據庫,可獲得晶圓由于工藝誤差引起的特征尺寸損耗、側壁陡直度和傾斜度的實際誤差值。本發明能夠在不破壞晶圓的情況下,實現對DRIE工藝多參數晶圓級無損監測,可獲取晶圓上局部或整體區域的具體參數,保證了監測數據的有效性和準確性,對于提高基于DRIE工藝的MEMS器件性能有重要意義。
聲明:
“DRIE工藝誤差監測系統及方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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