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            > 片劑雜質和抗張強度的高通量近紅外靈敏快速無損分析

            片劑雜質和抗張強度的高通量近紅外靈敏快速無損分析

            1105   編輯:管理員   來源:中冶有色網  
            2023-03-19 08:58:03
            本發明涉及一種片劑雜質和抗張強度的高通量近紅外靈敏快速無損分析方法,屬于藥物制劑分析領域。包括下述步驟:制備或收集片劑樣品;用傅里葉變換近紅外光譜儀采集已知片劑樣品的近紅外漫反射光譜(NIR-DRS);用高效液相色譜法(HPLC)測定片劑雜質含量的參考值;用游標卡尺和片劑硬度測試儀測定并計算抗張強度的參考值;對光譜進行預處理;選擇最優建模波數范圍并剔除奇異值;分別建立基于NIR-DRS的雜質和抗張強度校正模型并對模型性能進行評價;采集未知片劑樣品NIR-DRS;對未知片劑樣品NIR-DRS進行與已知樣品NIR-DRS相同的預處理;用所建模型預測未知片劑樣品的雜質含量和抗張強度。本方法靈敏度高,無需樣品預處理,分析快速無損,結果準確。
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            “片劑雜質和抗張強度的高通量近紅外靈敏快速無損分析” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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