本發明公開了一種電致發光器件工況原位分析系統及分析方法,其中,系統包括激發光路部分、電激發源部分、收集光路部分、信號探測和解析部分、頻率調制和同步部分,以及儀器機械控制部分。本發明的系統是多模式、多維度、多尺度的,將多種先進光譜學測試、鎖相放大技術、半導體器件電學測試、自動化二維位移系統、顯微鏡系統與儀器控制系統等有機結合,有助于直接揭示器件的能量損失途徑、單分子層面工作機制與器件老化機制,并指導未來材料化學和器件結構創新。
聲明:
“電致發光器件工況原位分析系統及分析方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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