本發明公開了一種活性材料修飾隔膜及其制備方法,該隔膜包括:具有絕緣及支撐作用的基膜層、可同鋰枝晶反應的活性物質層。所述基膜為聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚偏氟乙烯膜、聚偏氟乙烯?六氟丙烯膜、聚酰亞胺膜、聚酰胺膜、聚四氟乙烯膜、聚炳烯酸酯類膜、聚氯乙烯膜、聚環氧乙烯膜、玻璃纖維膜、纖維素膜、無紡布膜中的一種或多種復合膜。所述活性物質層的制備方法是將活性物質同粘結劑制成混合漿料,然后沉積到基膜上。所述沉積方法是刮涂、轉移涂、噴涂、磁控濺射、粒子束濺射、原子層沉積、電子束蒸鍍、脈沖激光沉積、氣相沉積。所述活性物質層至少沉積于隔膜一側。
聲明:
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