本發明屬于陶瓷制備技術領域,具體涉及一種自釋釉陶瓷及其制備方法。該自釋釉陶瓷的原料包括92?97份坯體基料、2?5份釉層促進劑和0.5?2.5份釉層活化劑;釉層促進劑包括硼鈣石、鈣硼硅熔塊、鋰長石和鋰瓷石中的至少一種;釉層促進劑細度為0.5?3μm,D90≤3μm;釉層活化劑包括氫氧化鈉、氫氧化鉀和硼酸中的至少一種。自釋釉陶瓷以氫氧化鈉、氫氧化鉀和硼酸中的至少一種作為釉層活化劑,在坯體干燥過程中,借助于水分向表面擴散而富集于坯體表面,促進釉層玻璃相的形成;以硼鈣石、鈣硼硅熔塊、鋰長石和鋰瓷石中的至少一種作為釉層促進劑,可以保證在燒成過程中,富堿液相向坯體表面遷移,促進釉層玻璃相的形成。
聲明:
“自釋釉陶瓷及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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