本發明公開了一種可重復書寫的抗劃薄膜及其制備方法,其制備方法包括以下步驟:將改性SiO2?TiO2納米復合材料、線性低密度聚乙烯和氧化聚乙烯混合置于高速攪拌機中,攪拌速度為600?800rpm,溫度為110℃,攪拌混合20?30min,之后通過雙螺桿擠出機擠出切粒,制得納米材料母粒;將納米材料母粒,高密度聚乙烯,醋酸乙烯?乙烯共聚物混合均勻,置于塑料吹塑成型機中,吹制成聚乙烯薄膜。該薄膜便于書寫,并且易于擦除,可重復使用。并且該薄膜表面耐劃擦,使用壽命較長。
聲明:
“可重復書寫的抗劃薄膜及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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